P03900 - SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） Revision:SEMI P39-0308 - Superseded 本仕様は，Global Liquid Chemical Distribution Systems

本仕様は，Global Liquid Chemical Distribution Systems Committeeで技術的に承認されたもので，日本地区ケミカルシステム委員会が直接責任を負うものである。現版は2000年1月14日に日本地区スタンダート委員会にて承認された。2001年8月にまずwww

This Standard also only applies to components with operating pressures less than 3445　kPa (500　psia) at 20°C

and description of the SECS-II messages

• Film deposition equipment (CVD

• A handoff interface that transfers a Material and its Material Data simultaneously between adjacent equipment

P03900 - SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） Revision:SEMI P39-0308 - Superseded 本仕様は，Global Liquid Chemical Distribution Systemsglobal Micropatterning Committee2008118global Audits and Reviews Subcommittee20082www. semi. org20083CD ROM20043200511 2001SEMIData Path Task ForceGDSIIGDSIIIC201632 GDSII1 163264 SEMI Data Path Task ForceInternational SematechEDASematech Referenced SEMI Standards None.