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本文書の目的は，赤外線吸収法によってSI GaAs内の深いドナーEL2の濃度を測定する方法を指定することである。
SEMI E40-1106 (technical revision)
To avoid any disturbance of future development and to facilitate interchangeability of diaphragm valves
The purpose of this Standard is to specify mechanical features for the 450 mm wafer tape frame cassette used between the wafer mounting process and the die-bonding process
で技術的に承認されている。現版は2012年12月20日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2013年3月にwww
E13300 - SEMI E133 - 自動プロセス制御システムインタフェースの仕様 StdTpc-Electronic Data Interchange 本文書の目的は，赤外線吸収法によってSI GaAs内の深いドナーEL2の濃度を測定する方法を指定することである。global Information & Control Technical Committee20111224global Audits and Reviews Subcommittee20122www. semiviews. org www. semi. org20043201011 R2RR2RFDFCFPSPCPCS(1) (2) PCS PCS : PCS XML Referenced SEMI Standards SEMI E81 Provisional Specification for CIM Framework Domain Architecture SEMI E121 Guide for Style and Usage of XML for Semiconductor Manufacturing Applications SEMI E125 Specification for Equipment Self Description (ESD) SEMI E134
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